而提到材料學，就不得不提到奠定了日本在精密加工以及精密芯片行業(yè)的統(tǒng)治地位的另一個基礎產(chǎn)業(yè)，那就是光刻機。

        光刻機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此光刻機價格昂貴，通常在3，000至5，0000萬美元。

        光刻機/紫外曝光機maskaligner又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫maskaligsystem.

        一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

        photolithography光刻意思是用光來制作一個圖形工藝。

        在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

        高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭a**l鏡頭來自德國，日本尼康intel曾經(jīng)購買過nikon的高端光刻機和日本佳能三大品牌為主。

        而光刻機里面最重要的就是曝光系統(tǒng)、工件臺和對準系統(tǒng)。

        曝光系統(tǒng)的主要功能就是平滑衍射效應、實現(xiàn)均勻照明、濾光和冷光處理、實現(xiàn)強光照明和光強調節(jié)等。

        工件臺由掩模樣片整體運動臺xy、掩模樣片相對運動臺xy、轉動臺、樣片調平機構、樣片調焦機構、承片臺、掩模夾、抽拉掩模臺組成。

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